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光電化學量子效率測試分析系統(tǒng)

簡要描述:光電化學量子效率測試分析系統(tǒng)采用光源、光電反應(yīng)池、電化學工作站組成光電反應(yīng)分析系統(tǒng),分析在不同光強、光譜的情況下的電化學。

  • 產(chǎn)品型號:CEL-QPCE3000
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-04-10
  • 訪  問  量:3057

詳細介紹

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應(yīng)用領(lǐng)域化工

光電化學量子效率測試分析系統(tǒng)

光催化的實質(zhì)是光電子催化,光生載流子作為反應(yīng)物參與反應(yīng),就光催化反應(yīng)動力學和機理研究而言,光電化學測試技術(shù)是一種非常重要和有效的手段。
半導體光催化技術(shù)治理環(huán)境污染物是從上世紀80 年代逐漸發(fā)展起來的一種高級氧化技術(shù),在常溫和常壓下,只利用催化劑、光和空氣就能將污染物破壞并最終礦化為無毒的二氧化碳、水和無機離子等,有望緩解日益嚴峻的環(huán)境污染問題。
當用能量等于或高于半導體吸收閾值的光照射塊狀半導體時,半導體的價帶電子可被激發(fā)躍遷到導,同時在價帶產(chǎn)生相應(yīng)的空穴,從而在半導體內(nèi)部產(chǎn)生電子-空穴對。 光生電子-空穴對在空間電荷層電場的作用下,空穴遷移到半導體粒子表面與溶液中的電子供體發(fā)生氧化反應(yīng),而電子與電子受體發(fā)生還原反應(yīng), 或者向電極基底運動并通過外電路到達對電極參與還原反應(yīng)。
光激發(fā)產(chǎn)生的電子和空穴至少經(jīng)歷以下途徑:載流子的擴散、俘獲、復(fù)合和界面電荷轉(zhuǎn)移. 其中復(fù)合和界面電荷轉(zhuǎn)移是兩個相互競爭的過程,界面電荷轉(zhuǎn)移最終實現(xiàn)光能的利用。


光電化學量子效率測試分析系統(tǒng)主要應(yīng)用:光電化學、光電催化研究的光譜響應(yīng)IPCE、量子效率QE、樣品池的光譜透過率、光譜響應(yīng)下的量子效率和光電流,實現(xiàn)了直流、交流分析,原電池分析,光電化學實驗分析等。

測試項目:光電化學樣品的光譜響應(yīng)IPCE,量子效率QE,光譜透過率,短路電流密度、表面均勻度等,測試樣品室內(nèi)放入樣品和不放入樣品時標準探測器的光譜電流/電壓值,測量光電反應(yīng)池的光譜透過率,也可以測量玻璃的光譜透過率。

光電實驗原理:
光源在不同波長的輻射能量不同,探測器在不同波長的響應(yīng)度也不同,因此,所測得的響應(yīng)電流也會有較大的不同。系統(tǒng)采用了相關(guān)檢測法,利用信號在時間上的相關(guān)性,把深埋于噪聲中的周期信號提取出來。具體做法是:將光源經(jīng)過斬波器調(diào)制成具有固定頻率(參考頻率)的周期信號,則探測器也輸出具有相同頻率的電信號,經(jīng)過鎖相放大器將含有參考頻率的電信號檢出,而其它頻率的信號(噪聲)則被抑制掉,從而提高了系統(tǒng)的信噪比,保證了測量準確度。

規(guī)格參數(shù)

1.控制模式:軟件控制、全自動掃描、自動消除誤差、自動扣除背景;

2.光譜范圍:300-1100nm(可選200-2500nm);掃描間隔  ≥1nm連續(xù)可調(diào);光譜掃描 全自動、連續(xù);

3.測試結(jié)果重復(fù)性RSI<0.3%(光電流)

4.工作模式:交流模式AC、電化學直流模式DC,斬波頻率 5-1000Hz

5.樣品臺:電動雙位樣品臺(標準參比、樣品),自動對比分析,置于屏蔽安室內(nèi)。

6.選配偏置光源 配置一路、兩路、可應(yīng)對復(fù)雜的光電分析測試

7.單色儀:1)焦距300mm采用非對稱水平Czerny-Turner光路,消慧差設(shè)計,可確保譜線對稱和良好的光學分辨率;2)消二次色散設(shè)計,有效抑制雜散光;3)入口可與我公司各種光源配套使用,可配光纖接口連接光纖;4)可連接我公司任意一款單點探測器和其它附件;5)小模數(shù)精密研磨蝸輪蝸桿,長壽命設(shè)計,運行平穩(wěn)舒適,噪聲低;6)※配有充氮氣口,便于在紫外和近紅外有大氣吸收譜的波段范圍內(nèi)使用;7)配有步進電機細分驅(qū)動器,光譜準確度和重復(fù)性高;8)狹縫設(shè)計*設(shè)計,刃口自動保護,寬度調(diào)節(jié)對稱性好,壽命長;9)軟件可實現(xiàn)波長的任意調(diào)整及延時設(shè)置,USB2.0計算機接口;10)內(nèi)部光學室和機械傳動室嚴格分開,避免后者產(chǎn)生雜散光及潤滑油微量揮發(fā)對光學件的污染,單色儀機體為鑄件一體結(jié)構(gòu),保證光學系統(tǒng)穩(wěn)定性。

8. 光源:500W氙燈光源,采用歐司朗進口燈泡,波動<0.01%。

9.  標準探測器:紫外增強型硅探測器(300-1100nm),選配銦鎵砷探測器(800-1600nm)。

10. 電化學工作站:選配Ivium電化學工作站,及其他品牌;



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